SEMICON JAPAN 2022

開催概要

• SEMICON JAPAN
• 会期：2022年12月14日～16日
• 会場：東京ビックサイト
• 展示：カートリッジフィルター、カプセルフィルター、RO装置、AMC制御、EGSガス吸着装置

Global Filter

– 水処理:

超純水は主に研磨後のシリコンウェーハの洗浄に使用され、製品の品質に悪影響を及ぼす可能性のある汚染物質を除去する目的で使用されます。 純水は、過度の熱によって故障する可能性のある製造装置の冷却にも使用されます。

– 高純度化学ろ過:

製品の清浄度を確保するために、製造プロセス全体でさまざまな化学物質が使用されます。 時間が経つにつれて、これらの流体は汚染され、寿命が短くなり、性能が低下する可能性があります。

– ウェーハ研磨:

高品質の回路を実現するには、すべてのシリコンウェーハを非常に高いレベルまで研磨する必要があります。 微粒子は、ウェーハ表面の品質に深刻な悪影響を与える可能性があるため、スラリーは非常に厳しい基準でろ過する必要があります。

POREX

管状膜フィルターモジュール
PVDF膜とPE基材を結合した特許取得済の独自技術
優れた強度、より高い操作圧力と逆洗圧力が実現

主な特長
• 高フラックス
• 長寿命
• 逆洗可能
• 複数の孔径
• PVDFまたはPE基板を使用
• 優れた耐薬品性と耐熱性
• 複数のチューブ構成
• 特許取得済み基材と膜結合（ PVDF/PVDF）

主な用途
• 重金属除去（ メッキ処理、プリント回路）
• 半導体
• 太陽電池
• プレRO・ROリクレイム
  （ 電力、鉄鋼・鉄、ブラインリサイクル）
• フッ素除去
• 高固形分除去システム
• ゼロ・リキッド・ディスチャージ（ZLD）システム

Purafil

ガススクラバー
半導体製造工程で発生する有毒ガスから周辺機器と作業者を保護

230種類以上（ホルムアルデヒド、オゾン、二酸化硫黄、硫化水素、アンモニア、TVOCなど）の刺激性・臭気性・腐食性の有毒で有害なガス状汚染物質の除去に高い効果を発揮

クリーンルームAMC制御・乾式排ガススクラバー

効率

クリーンルーム内のAMC制御により微細加工の歩留まりを大幅に改善、ウェットプロセス用ドライ排ガススクラバーは、もっとも厳しい排出規制や法的要件を満たし作業者の健康と安全な環境を確保

対象AMCの正確な制御

エリア内の除去対象ガスの種類と濃度に応じカスタマイズされたpurafilメディアは、各フィルターメディアが対象とする特定濃度を射程とし、最大のパフォーマンスを確保。廃棄ガスとメディア間の十分な接触時間を確保することで、ろ過効率を高め、長いろ過寿命を実現

ライフサイクルを予測

使用中のメディアをサンプリングし、purafilラボでライフサイクル分析を行うことが可能。これにより、メディアがそのライフサイクル内で十分な性能を発揮できることが保証され、寿命が来る前にメディアを交換することで、不必要なメンテナンスコストの増加やメディアの寿命による損害を回避

AMC（※1）の永久除去

purafilメディアは、化学的吸着によってAMCを除去し、化学反応で汚染物質はメディアの中に閉じ込められ、無害な固体粒子に変化。除去した汚染物質の気中再放出を不可逆化し、再侵入を防止

フレキシブルな設置スタイル

さまざまな仕様があるため、お客様のご要望にあわせて柔軟に対応

メンテナンスコストの低減

各フィルターレンジのメディアを単独で交換できるため、メディアの交換が容易。メンテナンスにかかる時間とコストを低減し、トータルコストを削減

※1　AMCとは何でしょうか？
AMCはAirborne Molecular Contamination の略で空気中の分子汚染のことです。
蒸気またはエアロゾルの形での化学汚染であり、製品またはプロセスに悪影響を及ぼします。
これらの化学物質は、本質的に有機または無機であり得、酸(Acid=A)、塩基(Bases=B)、凝集性（Condensables=C)ドーパント（Dopant=D)で分類されます。